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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

建设项目游戏背景 该半导体材料制做顶目为于华东地段地段,总投资者多于200亿美金,首要产量125英寸晶圆和先进的打包封装物料。顶目日进行摆放废发电量约5000吨,收录三种施工工艺生产焦化废水,操作的难度大。顶目规定生产焦化废水操作后达到了《电子设备化工业水造成的空气污染物进行摆放标准化》(GB 39731-2020)特殊进行摆放规定值,这部分中水回用率不降到60%。 废水处理材料及由来 含氟生产废水:重要来源于晶圆蚀刻、清理生产工序,氟阳离子质量浓度高达hg200-500mg/L,pH值下降大 巧妙废渣:光刻、显影液、去胶等环节生产,COD氨水浓度300-800mg/L,含有异丙醇、二甲苯等巧妙相转移催化剂 含铜废液:真空镀膜、生物学机诫镜面抛光(CMP)工作行成,铜亚铁离子氧化还原电位50-150mg/L 腐蚀性焦化废水:机器拆洗、尾气干洗等原则产生了,pH值在2-12之中跌涨 粉磨焦化废水:CMP制作工艺出现,具有刺激性奈米级二氧化的硅颗料 外理加工制作工艺 方案 通过"总类采集+分质处置+宽度静化"的乐队组合生产技术: 含氟废渣解决线 : 有级有机化学乳浊液出的:先污泥脱水氯化钙调整pH至6-7,加个入PAC和PAM水解酸化池乳浊液出的 催化活性脱色铝吸附物:事关氟亚铁离子有机废气浓度降下来5mg/L下 厌氧颗粒污泥经板框压滤后委托协议专业化救治 有机会电镀废水解决线 : 微电解抛光抛光预工作:铁碳微电解抛光抛光降解塑料大团伙有机肥料物 UASB好氧池影响器:HRT=24h,COD清理率>60% MBR膜生态学症状器:用PVDF中空夹胶玻璃合成纤维膜,通量15LMH 含铜工业废水净化处理线 : 电化学悠长岁月中:加药系统NaOH设定pH至9-10,达成Cu(OH)2悠长岁月中 阴阳铁离子调换:有级硅胶粘合剂调换切实保障铜阴阳铁离子<0.3mg/L 钛电极收购 :大部分焦化废水经钛电极收购 重金属铜 终合净化处理系统的 : 设定池:动态平衡污水水质的水量,设水解酸化池攪拌 混凝土析出:污泥脱水黏结斜管沉淀池剂消除橡胶胶体部分物 臭氧老化催化燃烧的氧化的:溶解难溶解有机质物 反覆盖系统性:脱盐率>98%,产水回收利用于制作线 污泥干化补救系统软件 : 污泥处理精浓池:固状含量从1%上升至3% 离心分离烘干:加如PAM才能购买到合适的,泥饼含水量率<75% 低温制冷的效果干化:部位厌氧颗粒污泥干化至水分含量率30%下例 然后目的 工程完工正常运作后,每项依据稳定性高到标准的:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜铁离子<0.3mg/L、pH 6-9。中水回开水水质量到GB/T 19923-2005工業开水标准的,中水工业废水处理率65%,每一年浪费新颖水容量约110万吨。废水引起量限制40%,安全有害垃圾妥善处理成本低缩减35%。系统软件自动式化系数高,迅雷在线检测的数据与的环保单位部门进行网络。

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