半导体晶圆划片废水怎么处理方法|半导体晶圆划片废水处理案例
产品背景图案
该工业品牌为环球技术型的半导体IC芯片首测工业品牌,处在珠三边形区县,注意做中高端IC芯片的片区和封装形式测式。犹豫当地政府坏保规定要求苛刻,工业品牌来决定制定一个污废水 零尾气排放创业项目工程。创业项目于202三年再启动,202三年6月成立投建,清理投资者额为200吨/日,总投资者约2000千元。
工业废水含量及的来源
某项目标片区废水处理方法包括之下特别:
高含量氟化物,关键产自晶圆割孔后的洗掉制作工艺,氟铝离子含量达到150-200mg/L
有奈米级硅粉粒子,粒级多在100-500nm两者
设计承载较高,COD在500-800mg/L
包含的轻微巨资属如铅、镉等
电阻率高,一般在2000-3000μS/cm
治疗新工艺方法
为进行零污染物指标,工序构思着重于要考虑到废液归类搜集和物资回收并:
生产废水总类整理平台
:将含氟废污水与另外废污水独立分类整理
生物学沉积除氟
:进行两极钙盐沉定法,相互配合科学规范沉定池
高档腐蚀解决
:臭氧老化催化脱色脱色化学降解难补救有机化学物
膜果汁系统性
:适用DTRO碟管式反渗透设备到,萃取公倍数为10倍
蒸馏晶体
:MVR机器水蒸气再压缩成挥发器净化处理浓水
空气干燥软件
:将心得盐常温、干燥后有所作为工业企业副企业产品外售
清理成效
体系运动信息提示 :
氟化物出掉率>99.9%,留水氟阴阳离子<1mg/L
COD总去掉率>98%,有水出COD<20mg/L
水材料收回率>95%,仅生成一点晶体盐
次年可回笼高品性循环水约5万吨
心得盐含量起到产业级标准,实现目标影视秸秆综合合理利用合理利用
工程不只是实现目标了污水零产生,还采用产品回收利用创造出了约80万余元/年的减半贴现率。